首页 > 产品中心
单晶圆腐蚀设备
特性和规格

◎ 晶圆规格:4、6、8、12英寸晶圆

◎ 处理能力:根据产能需求配置多个腔体

◎ 3Cup设计:单腔3Cup设计,可以连续刻蚀两种金属

◎ 腐蚀能力:腐蚀后无金属残留,8&12寸均匀性<5%

◎ 破片率:Wafer破损率<10ppm

◎ FFU:设备配备FFU,CLASS 100环境

◎ 阀门选配:CKD、Gemu、Kitz、SMC、SEBA等

◎ 触摸屏选配:PROFACE、三菱、SIEMENS、OMRON

◎ 系统可靠性:Uptime≥95%,MTBA >3 hrs,MTBF >240 hrs,MTTR <4 hrs